🔬 علوم المواد
Rapid Atmospheric Vapor Deposition of H:In2O3 Transparent Conducting Oxide Thin Films
تُثبت هذه الورقة أن الترسيب الكيميائي للبخار عند الضغط الجوي (AP-CVD) في درجات حرارة معتدلة (140 درجة مئوية) يمكنه تصنيع أفلام أكسيد موصل شفاف من نوع H:In2O3 عالية الأداء بسرعة وبتكلفة اقتصادية، مع تميزها بموصلية ونفاذية فائقين مقارنة بالمعايير التجارية، وذلك باستخدام مشوبات الهيدروجين المشتقة من الماء لتعزيز حركة حوامل الشحنة بشكل كبير.
Xiaoyu Guo, Hae-Jun Seok, Eilidh L. Quinn, Matthew K Sharpe, Callum. D. McAleese, Yi-Teng Huang, Xinjuan Li, Kexue Li, C (…)2026-05-18