Chemical Vapor Deposition of Epitaxial Chromium Nitride Thin Films
تُبلغ هذه الدراسة عن النجاح في تخليق أغشية رقيقة من نتريد الكروم (CrN) ذات جودة عالية، ونمائية، وخالية من الكربون والكلور عبر الترسيب الكيميائي للبخار الحراري (CVD) باستخدام سلائف مُولدة في الموقع، مما يتغلب على القيود السابقة لتمكين استراتيجيات هندسة العيوب والتطعيم المتقدمة التي كانت تقتصر سابقاً على الترسيب الفيزيائي للبخار.