Selectively Demarcating and Modifying Defects in Two-Dimensional Semiconductors in a 300 mm Fab
تقدم هذه الورقة عملية قائمة على الكلور قابلة للتصنيع على ركائز بقطر 300 ملم تعمل على حفر وإصلاح العيوب في طبقات أحادية من ثنائي كبريتيد الموليبدينوم بشكل انتقائي، مما يحسن بشكل كبير الأداء الكهربائي لترانزستورات التأثير المجالي الناتجة.