Hot carrier diffusion-assisted ideal carrier multiplication in monolayer MoSe2
यह अध्ययन प्रदर्शित करता है कि मोनोलेयर MoSe2, कैरियर-लैटिस स्कैटरिंग के दमन और प्रचुर 2Eg बैंड नेस्टिंग मार्गों के माध्यम से सैद्धांतिक अधिकतम कैरियर मल्टीप्लिकेशन दक्षता प्राप्त करता है, जो इसके बल्क समकक्ष से बेहतर प्रदर्शन करता है और इसे अगली पीढ़ी के ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक अनुप्रयोगों के लिए एक आशाजनक उम्मीदवार के रूप में स्थापित करता है।