Gradient-based inverse lithography for EUV masks via the waveguide method and a physics-informed neural operator
यह शोध पत्र EUV मास्क के लिए एक ग्रेडिएंट-आधारित इनवर्स लिथोग्राफी फ्रेमवर्क प्रस्तुत करता है जो अनुकूलतम एब्जॉर्बर परमिटिविटी (permittivity) को स्वचालित रूप से रिकवर करने के लिए डिफरेंशिएबल वेवगाइड विधियों और वेवगाइड न्यूरल ऑपरेटर्स को एंड-टू-एंड फिजिक्स इंजन के रूप में एकीकृत करता है, जो सफलतापूर्वक ऐसे मास्क स्ट्रक्चर उत्पन्न करता है जो 11.2 nm पर यथार्थवादी 2D और 3D सामग्रियों के लिए वांछित वेफर फील्ड्स प्राप्त करते हैं।