High-Strength Amorphous Silicon Carbide for Nanomechanics
यह अध्ययन 10 GPa से अधिक की रिकॉर्ड-तोड़ अंतिम तन्यता शक्ति (अल्टीमेट टेंसाइल स्ट्रेंथ) और 10^8 से ऊपर के रूम-टेम्परेचर क्वालिटी फैक्टर्स वाले एक वेफर-स्केल अमोर्फस सिलिकॉन कार्बाइड थिन फिल्म के निर्माण की रिपोर्ट करता है, जो उच्च-प्रदर्शन वाले नैनोमैकेनिकल सेंसरों और डायनेमिक अनुप्रयोगों के लिए एक नया बेंचमार्क स्थापित करता है।