A charge-flow instability in plasmas with charge fluctuations
यह शोध पत्र चुम्बकित प्लाज्मा में एक नवीन रैखिक आवेश-प्रवाह (C-flow) अस्थिरता को प्रस्तुत और मान्य करता है, जो आवेश रासायनिक विभव और बल्क वेग के आनुपातिक विद्युत धाराओं द्वारा संचालित होती है, और जो शून्य-औसत उतार-चढ़ाव, लुप्त प्रतिरोधकता और इकाई चुंबकीय प्रैंड्टल संख्या की स्थितियों के तहत भी बनी रहती है।