On-chip stencil lithography for superconducting qubits
यह शोध पत्र एक सुदृढ़ अकार्बनिक SiO/SiN ऑन-चिप स्टेंसिल लिथोग्राफी मास्क प्रस्तुत करता है जो उच्च तापमान और आक्रामक सफाई को सहन कर सकता है, जो पारंपरिक कार्बनिक रेजिस्ट की सीमाओं को पार करते हुए अत्याधुनिक उपकरणों के समान जीवनकाल वाले उच्च-सुसंगत (high-coherence) Al-आधारित ट्रांसमोन क्वबिट्स के निर्माण को सक्षम बनाता है।