Scaling Two-Dimensional Semiconductor Nanoribbons for High-Performance Electronics
Questo studio dimostra che scalare i transistor a nanonastro di TMD monostrato a larghezze di circa 30–40 nm migliora significativamente le prestazioni del dispositivo riducendo la resistenza di contatto e migliorando l'elettrostatica, raggiungendo elevate densità di corrente di accensione che collocano questi materiali come candidati promettenti per l'elettronica futura ultra-scalata.