Wide-Surface Furnace for In Situ X-Ray Diffraction of Combinatorial Samples using a High-Throughput Approach
Questo lavoro presenta la progettazione e l'implementazione di un forno a larga superficie per la caratterizzazione ad alto rendimento di campioni combinatori su wafer da 100 mm tramite diffrazione e fluorescenza a raggi X in situ a temperature elevate, applicando tale approccio allo studio dei coefficienti di espansione termica di un sistema ternario e alla verifica dei limiti della legge di Vegard nei materiali ad alta entropia.