Plasma-Load-Adaptive LLC Bias Control for Energy-Resolved ICP Ion-Beam Polishing of Quartz
Questo articolo presenta un framework di simulazione ridotto che collega un alimentatore a bias risonante LLC da 2 kW alla distribuzione dell'energia ionica e alla densità spettrale di potenza superficiale, dimostrando che il controllo della tensione di gate adattivo al carico del plasma offre una via progettuale robusta per ottimizzare lo spettro di rugosità del quarzo lucidato tramite fascio ionico.