Delta-Doped Diamond via in-situ Plasma-Distance Control
Die Studie stellt eine neue CVD-Methode zur Herstellung von delta-dotierten Diamantschichten durch präzise in-situ-Plasmaabstandssteuerung vor, die zwei bisher unbekannte Wachstumsregime ermöglicht und so die kontrollierte Einbringung von Stickstoff für Anwendungen im Quantensensing und Quantencomputing sowie für die Diamantelektronik erlaubt.