Impact of O concentration on the thermal stability and decomposition mechanism of (Cr,Al)N compared to (Ti,Al)N thin films
Diese Studie zeigt, dass die Einlagerung von Sauerstoff die thermische Stabilität von (Ti,Al)(O,N)-Filmen durch die Hemmung der Zersetzung signifikant verbessert, jedoch keinen solchen Effekt auf (Cr,Al)(O,N)-Filme hat, da deren Zersetzung durch das Aufbrechen von Cr-N-Bindungen und die anschließende Stickstoffverdampfung ausgelöst wird, was Vakanzen schafft, die unabhängig vom Sauerstoffgehalt einen schnellen Stofftransport begünstigen.