Statistical Modeling and Optimization of Oxide Layer Thickness During Electrolytic In-Process Dressing (ELID) Grinding Using Response Surface Methodology
Diese Studie verwendet die Response-Surface-Methodik, um die Auswirkungen von Spannung, Elektrodenabstand und Kühlmitteltemperatur auf die Oxidschichtdicke beim ELID-Schleifen statistisch zu modellieren und zu optimieren, wobei die Spannung als dominanter Faktor identifiziert und optimale Bedingungen von 70 V, 0,10 mm Abstand und 6 L/min Kühlmitteltemperatur zur Minimierung der Dicke festgelegt wurden.