Plasma-Load-Adaptive LLC Bias Control for Energy-Resolved ICP Ion-Beam Polishing of Quartz
Diese Arbeit präsentiert ein reduziertes Simulationsframework, das eine 2 kW LLC-Resonanz-Bias-Versorgung mit der Energieverteilung der Ionen und der Leistungsspektraldichte der Oberfläche verknüpft und zeigt, dass eine plasma-last-adaptive Gate-Spannungssteuerung einen robusten Entwurfsweg zur Optimierung des Rauheitsspektrums von ionenstrahlpoliertem Quarz darstellt.