Delta-Doped Diamond via in-situ Plasma-Distance Control
Este estudio presenta un método de crecimiento de diamante mediante CVD que utiliza el control de la distancia in situ entre la muestra y la base del reactor para generar dos nuevos regímenes de crecimiento, permitiendo la fabricación precisa de capas delta-dopadas con nitrógeno y defectos NV para aplicaciones en sensores cuánticos y computación cuántica.