Impact of O concentration on the thermal stability and decomposition mechanism of (Cr,Al)N compared to (Ti,Al)N thin films
Este estudio revela que, si bien la incorporación de oxígeno mejora significativamente la estabilidad térmica de las películas de (Ti,Al)(O,N) al inhibir la descomposición, no tiene tal efecto en las películas de (Cr,Al)(O,N) debido a que su descomposición es desencadenada por la ruptura del enlace Cr-N y la subsiguiente evaporación de nitrógeno, lo cual crea vacantes que facilitan un transporte de masa rápido independientemente del contenido de oxígeno.