First Plasma Atomic Layer Etching of Diamond via O/Kr Chemistry
Este artículo presenta el primer proceso de grabado atómico en capas (ALE) de diamante mediante una química de plasma cíclico con oxígeno y kriptón, logrando una eliminación de material controlada a escala atómica con daños mínimos y una rugosidad superficial reducida, lo que abre nuevas posibilidades para la fabricación de dispositivos avanzados en electrónica de potencia, fotónica y tecnologías cuánticas.