Plasma-Load-Adaptive LLC Bias Control for Energy-Resolved ICP Ion-Beam Polishing of Quartz
Este artículo presenta un marco de simulación reducido que vincula una fuente de polarización resonante LLC de 2 kW con la distribución de energía de los iones y la densidad espectral de potencia superficial, demostrando que el control del voltaje de compuerta adaptativo al plasma ofrece una ruta de diseño robusta para optimizar el espectro de rugosidad del cuarzo pulido por haz de iones.