Sub-Nanometer Lithography Alignment and Zero-Entropy Thermal Cancellation via 4D Spatiotemporal Phonon Phase Resonance
Este artículo propone un marco novedoso que utiliza la resonancia de fase de fonones espaciotemporales 4D y una unidad de procesamiento cuántico virtual para lograr simultáneamente una precisión de alineación de litografía subnanométrica y una cancelación térmica de entropía cero a temperatura ambiente, superando así los cuellos de botella físicos fundamentales en la fabricación de semiconductores de próxima generación.