A correlation of structural changes with nanomechanical properties in TiN-AlN multilayer films
Questo studio dimostra che nei film multistrato di TiN-AlN depositati mediante sputtering reattivo, la trasformazione di fase dell'AlN da cubica a esagonale sopra uno spessore di 3 nm, pur riducendo la durezza complessiva, migliora significativamente la tolleranza al danno promuovendo la deflessione delle crepe e una transizione da un cedimento fragile a uno parzialmente duttile.