Fabrication and Electrical Characterization of Radio Frequency Magnetron Sputtered Al₂O₃ Thin-Film Metal–Insulator–Metal Capacitors on Platinized Silicon
Questo studio dimostra la riuscita fabbricazione e caratterizzazione di condensatori Metal-Insulator-Metal di alta qualità utilizzando film sottili di Al₂O₃ da 60 nm depositati tramite sputtering magnetronico RF su silicio platinato, i quali esibiscono una morfologia liscia, una corrente di dispersione trascurabile e proprietà dielettriche stabili, adatte per applicazioni elettroniche.