Fabrication and Electrical Characterization of Radio Frequency Magnetron Sputtered Al₂O₃ Thin-Film Metal–Insulator–Metal Capacitors on Platinized Silicon
본 연구는 백금화된 실리콘 상에 RF 마그네트론 스퍼터링 공정으로 증착된 60 nm 두께의 Al₂O₃ 박막을 사용하여, 매끄러운 모폴로지, 무시할 수 있는 수준의 누설 전류, 그리고 전자 소자 응용에 적합한 안정적인 유전 특성을 나타내는 고품질 금속-절연체-금속 커패시터의 성공적인 제작 및 특성 분석을 입증한다.