Wide-Surface Furnace for In Situ X-Ray Diffraction of Combinatorial Samples using a High-Throughput Approach
In dit artikel wordt een nieuwe hoogtemperatuur-oven gepresenteerd die in situ X-ray diffractie van combinatorische materiaalbibliotheken op 100 mm wafers mogelijk maakt onder gecontroleerde atmosferen, waardoor snelle karakterisering en de berekening van thermische uitzettingscoëfficiënten voor complexe oxide-systemen worden gerealiseerd.