Mechanical and Interfacial Properties Characterization of Physical Vapor Deposited Metallic Films after Rapid Thermal Annealing
Deze studie onderzoekt de effecten van de temperatuur van Rapid Thermal Annealing op de mechanische eigenschappen, de interface-adhesie en de microstructuurontwikkeling van door Physical Vapor Deposition afgezette aluminium- en koperfilms, waarbij wordt onthuld dat hoewel gloeien de hardheid en de elasticiteitsmodulus vermindert, het de adhesiekracht kan verbeteren door korrelgroei en veranderingen in de oppervlaktemorfologie, waardoor kritische inzichten worden geboden voor het optimaliseren van procesparameters in halfgeleidertoepassingen.