Theoretical Ion Sputtering Yields from Loose Powders using a Multiscale Monte Carlo Approach
Este artigo apresenta um modelo de Monte Carlo multiescala que revela que o rendimento de sputtering de pós soltos difere significativamente do de superfícies planas, sendo dominado por ejecta direcionados para trás e descrito por uma função de ajuste universal para o rendimento duplamente diferencial.