HF Etching and Silanization: Evidence for the Role of Surface Hydroxyl Groups in Silicon Nitride Resonator Loss
Este estudo demonstra que a funcionalização química de ressonadores de nitreto de silício via silanização com TMCS, que visa grupos hidroxila superficiais, aumenta significativamente os fatores de qualidade mecânica em até 50%, identificando assim as hidroxilas superficiais como uma fonte primária de perda de energia em dispositivos de nanoescala.