Hydrogenation-induced gigantic resistance decrease of palladium films deposited by high pressure magnetron sputtering
O artigo demonstra que filmes de paládio altamente desordenados, depositados por magnetron sputtering em alta pressão de argônio, exibem uma redução gigantesca na resistência elétrica (até 1/335) após hidrogenação, impulsionada pela melhoria dos contatos entre grãos e pela cristalização induzida pelo hidrogênio, oferecendo uma estratégia simples para aprimorar sensores de hidrogênio.