Fabrication and Electrical Characterization of Radio Frequency Magnetron Sputtered Al₂O₃ Thin-Film Metal–Insulator–Metal Capacitors on Platinized Silicon
Diese Studie demonstriert die erfolgreiche Herstellung und Charakterisierung hochwertiger Metall-Isolator-Metall-Kondensatoren unter Verwendung von 60 nm dicken, mittels RF-Magnetron-Sputtern auf platinisiertem Silizium abgeschiedenen Al₂O₃-Dünnschichten, welche eine glatte Morphologie, vernachlässigbare Leckströme und stabile dielektrische Eigenschaften aufweisen, die für elektronische Anwendungen geeignet sind.