Fabrication and Electrical Characterization of Radio Frequency Magnetron Sputtered Al₂O₃ Thin-Film Metal–Insulator–Metal Capacitors on Platinized Silicon
Este estudio demuestra la fabricación y caracterización exitosas de capacitores Metal-Aislante-Metal de alta calidad utilizando películas delgadas de Al₂O₃ de 60 nm depositadas mediante pulverización catódica de magnetrón de RF sobre silicio platinado, las cuales exhiben una morfología suave, corriente de fuga insignificante y propiedades dieléctricas estables adecuadas para aplicaciones electrónicas.