Ultrashort Pulse Train Generation on a 100TW Laser Beamline Using a Delay Mask After the Final Focusing Optics
Cet article rapporte des résultats expérimentaux démontrant la faisabilité de l'utilisation d'un masque de retard en silice fondue de 500 µm d'épaisseur avec une ouverture centrale pour générer des trains d'impulsions ultracourtes sur un faisceau laser de 120 TW, répondant ainsi à une exigence clé du schéma d'injection par ionisation multipulse résonante dans l'accélération par champ de plasma (laser wakefield acceleration).