Plasma-Load-Adaptive LLC Bias Control for Energy-Resolved ICP Ion-Beam Polishing of Quartz
Cet article présente un cadre de simulation réduit reliant une alimentation à biais résonante LLC de 2 kW à la distribution d'énergie des ions et à la densité spectrale de puissance de surface, démontrant qu'un contrôle de la tension de grille adaptatif au plasma offre une voie de conception robuste pour optimiser le spectre de rugosité du quartz poli par faisceau d'ions.