Nanoscale mapping of stacking-dependent work function and local photoresponse in CVD-grown MoS2 bilayers by KPFM
本論文は、ナノスケールの KPFM 計測を用いて、CVD 成長された MoS2 二層膜の積層順序(AA'積層と AB 積層)が仕事関数や局所的な光応答に及ぼす影響を解明し、層間結合、基板上の光ゲート効果、および表面残留粒子によるキャリア捕獲の競合効果が局所光電子応答を決定づけることを示したものである。