Three-dimensional imaging of oxygen dopant distribution in SrCuO by electron ptychography
マルチスライス電子型テクトグラフィーを用いることで、研究者らはSrCuOにおける酸素ドーパントの三次元的な原子スケールでのイメージングに成功し、それらが引張歪み領域において非ランダムなクラスターを形成していることを明らかにし、歪みが銅酸化物超伝導体におけるドーピングを制御するための重要なパラメータであることを確立した。