Statistical Modeling and Optimization of Oxide Layer Thickness During Electrolytic In-Process Dressing (ELID) Grinding Using Response Surface Methodology
本研究では、応答曲面法を用いて、ELID研削における酸化膜厚さに対する電圧、電極間隙、およびクーラント流速の影響を統計的にモデル化および最適化し、電圧が支配的な要因であることを特定した上で、厚さを最小化するための最適条件を電圧70 V、電極間隙0.10 mm、およびクーラント流速6 L/minと確立した。