Nanoscale graphitization and defect evolution in silicon-vacancy center-containing nanodiamonds under high-pressure high-temperature annealing
Deze studie maakt gebruik van in situ synchrotron röntgendiffractie om een nauwkeurig hoogdruk-hoogtemperatuur verwerkingsvenster voor nanodiamanten met silicium-vacaturecentra vast te stellen, waarbij specifieke grafitisatiedrempels worden geïdentificeerd die het mogelijk maken om door middel van rekverlichtende gloeien de optische eigenschappen te verbeteren zonder een faseovergang te induceren.