In-Situ Performance of FBK VUV-HD3 and HPK VUV4 SiPMs in the LoLX Liquid Xenon Detector
Dit artikel presenteert een directe vergelijking van FBK VUV-HD3 en HPK VUV4 SiPM's in de LoLX-liquid xenon-detector, waarbij wordt aangetoond dat een hoek- en golflengte-afhankelijk PDE-model met oppervlakte-schaduw-effecten de waargenomen lichtverliezen bij HPK-bewerkers succesvol verklaart.