Impact of O concentration on the thermal stability and decomposition mechanism of (Cr,Al)N compared to (Ti,Al)N thin films
Este estudo revela que, embora a incorporação de oxigênio aumente significativamente a estabilidade térmica dos filmes de (Ti,Al)(O,N) ao inibir a decomposição, ela não possui tal efeito nos filmes de (Cr,Al)(O,N) porque a sua decomposição é desencadeada pela quebra da ligação Cr-N e subsequente evaporação de nitrogênio, o que cria vacâncias que facilitam o transporte rápido de massa independentemente do conteúdo de oxigênio.