Fabrication and Electrical Characterization of Radio Frequency Magnetron Sputtered Al₂O₃ Thin-Film Metal–Insulator–Metal Capacitors on Platinized Silicon
本研究展示了利用在铂化硅上通过射频磁控溅射沉积的 60 nm Al₂O₃ 薄膜成功制备并表征出高质量金属-绝缘体-金属电容器,该电容器具有光滑的形貌、极低的漏电流以及稳定的介电特性,适用于电子应用。