Uncertainty propagation from SEM profiles to TCAD-referenced electrical predictions using coupled process and device models
Diese Arbeit präsentiert ein Framework, das Unsicherheiten aus Querschnitts-SEM-Profilen durch gekoppelte Prozess- und Bauteil-TCAD-Modelle propagiert, um räumlich kohärente Konturen und kalibrierte elektrische Vorhersagen zu generieren und dabei eine hohe geometrische Genauigkeit sowie eine zuverlässige Abdeckung der Schwellenspannungsintervalle für die Halbleitercharakterisierung zu erreichen.