Fabrication and Electrical Characterization of Radio Frequency Magnetron Sputtered Al₂O₃ Thin-Film Metal–Insulator–Metal Capacitors on Platinized Silicon
Cette étude démontre la fabrication et la caractérisation réussies de condensateurs Métal-Isolant-Métal de haute qualité utilisant des couches minces d'Al₂O₃ de 60 nm déposées par pulvérisation magnétron RF sur du silicium platiné, qui présentent une morphologie lisse, un courant de fuite négligeable et des propriétés diélectriques stables adaptées aux applications électroniques.