Room Temperature RF Sputtering of Mixed Ionic and Electronic Conductor Nd2Ni0.8Cu0.2O4+d films
本論文は、異なるスパッタリング収率を持つ元素を含む単一ターゲットを用いた室温 RF スパッタリングと後熱処理により、SOFC 用陰極として有望な Nd2Ni0.8Cu0.2O4+δ 薄膜を製造し、高電力密度が望ましい Ruddlesden-Popper 相の安定化と化学量論組成の達成に寄与することを示したものである。