Origin of mixed anisotropy in crystalline Permalloy and amorphous Cobalt thin films individually deposited on Si substrate
本研究は、Si基板上のrfスパッタリングによる結晶性パーマロイおよび非晶質コバルト薄膜における混合磁気異方性の進化を調査し、成長条件と膜厚がいかにして磁化の傾きを誘起するかを明らかにし、スピントロニクスデバイスの性能を向上させるための明確な異方性領域を定義するものである。