Plasma-Load-Adaptive LLC Bias Control for Energy-Resolved ICP Ion-Beam Polishing of Quartz
Este artigo apresenta uma estrutura de simulação reduzida que vincula uma fonte de polarização ressonante LLC de 2 kW à distribuição de energia iônica e à densidade espectral de potência superficial, demonstrando que o controle da tensão de porta adaptável à carga do plasma oferece uma rota de projeto robusta para otimizar o espectro de rugosidade do quartzo polido por feixe de íons.