Uncertainty-aware calibration from SEM profiles to electrical response using coupled process and device TCAD
本論文は、境界分布を結合されたプロセスおよびデバイスTCADシミュレーションを通じて伝播させることにより、SEMプロファイルを電気的応答へとマッピングする、不確実性を考慮したクローズドループ計算フレームワークを導入し、これにより従来のハード境界キャリブレーションと比較して、電気的予測の精度とアノテーション効率を向上させるものである。